東莞海源專業(yè)提供半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗超純水設(shè)備，半導(dǎo)體芯片清洗超純水系統(tǒng)，我公司設(shè)計的超純水設(shè)備采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。
鍺和硅是最常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ 族化合物（砷化鎵、磷化鎵等）、Ⅱ-Ⅵ族化合物( 硫化鎘、硫化鋅等)、氧化物(錳、鉻、鐵、銅的氧化物),以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體（鎵鋁砷、鎵砷磷等）。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備特點(diǎn)：
為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，延長設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計上，取達(dá)國家自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
應(yīng)用場合：
☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
